的要求。
咱们在一微米光刻机上使用的高压汞灯，理论上其极限能达035微米的加工精度，但需要对其结构进行彻底的改造，且越是接近极限，越难以达成。
而被业界普遍认定是下一代光刻机光源的krf（氟化氪）准分子激光，光源波长为248n，可以使最小工艺节点提升至350-180n水平。
当今世界上，很多激光相关的研究所，都在对准分子激光进行研，进度参差不齐，达到实用水平的，一个都没有。
我的建议是，在光刻机光源方面，两种线路同时研，哪个率先取得突破，下一代05微米光刻机上，就使用哪一种光源。”
一位光学方面的专家言道：
“光源波长越短，传播过程中越容易被透镜吸收。
下一代05微米光刻机，如果依旧使用高压汞灯当光源，使用现在的透镜组合就足够了，顶多加工精度再提高一些。
如果使用准分子激光做光源，透镜系统就需要推倒重做，组合里至少增加两枚玻璃透镜，参数也要重新设计，还有镀膜材质也要重新开。
这方面研究需要尽快提上日程，如果开新透镜组合，需要的计算量非常的大，使用普通计算机计算，需要的时间会非常长，我建议咱们使用ar1芯片，组装一台级计算机出来。”
一位深镇大学教计算机的教授，推了推眼镜出声道：
“级计算机确实是个好东西，咱们很多研中的项目涉及到大量数据计算和模拟测试，如果咱们实验室有一台级计算机，可以把研度提高很多。
维创电子公司晶圆工厂出产的ar1芯片，是世界上第一款精简指令集芯片，以10万晶体管数量，提供了远芯片的性能，在功耗上，也只有后者的三分之一左右，是制作级计算机的最优芯片。
