星城半导体产业园，中微公司总部大楼。
正值凌晨，一场特殊的会议正在二十一楼的会议室召开。
会议室的气氛有些紧张，威廉姆斯团队和中微的核心研人员第一次正式碰面。
李一凡和尹志尧坐在主席台上，看着下面泾渭分明的两个团队。
一边以威廉姆斯为的十一人国际团队，另一边是中微刻蚀机研团队的骨干成员。
“今天这个会议很重要。”
李一凡开门见山，“从今天开始，中微将正式组建光刻机事业部，与现有的刻蚀机事业部一起展。
威廉姆斯博士担任光刻机事业部总经理，直接向董事会报告。”
“但我要强调的是，两个事业部并不是割裂的。”
他环视全场，“光刻机和刻蚀机虽然是不同的设备，但在核心技术上是有共通之处的。
我希望两个团队能够紧密合作，实现技术共享、优势互补。”
威廉姆斯站起身来，用流利的中文说道：“非常感谢中微给我们这个机会。
在加入之前，我们就深入研究中微的技术积累。
必须承认，你们在精密机械控制、稀疏技术等领域的创新，给了我们很大的启。”
他打开笔记本电脑，调出了一份技术方案：“这是我们的初步规划。
光刻机的核心在于光学系统、机械系统和控制系统的完美配合。
中微在后两个领域已经有很深的积累，这让我们在光学系统的创新上多了信心。”
对面的梁宗杰，中微刻蚀机研的总工程师皱了皱眉：“威廉姆斯博士，我很认可您的观点。
但有一个现实问题：我们的精密控制技术是针对刻蚀工艺开的，用在光刻机上是否需要重新设计？”
“好问题。”
威廉姆斯眼睛一亮，“这正是我们要重点合作的地方。
刻蚀机和光刻机在纳米级精密控制上的需求是相通的。
比如梯度的稳定性控制、机械臂的精准定位等，这些技术完全可以共享。”
他调出了另一张图表：“我们的设想是这样的：在现有的精密控制平台基础上，开一套更通用的光刻系统架构。
这套架构不仅能满足刻机的需求，还能为光刻机的开提供支持。”
杨思涵认真看着图表，很快点头：“这个思路。
不过实现起来难度不小。
光刻机对精度的要求比刻蚀机还要高一个数量级。”
“正因如此，我们才选择了一条全新的技术路线。”
威廉姆斯说，“传统光刻机主要依赖波长的种群来精度提升，从深线到极线。
但这条路越走越难，成本也越来越高。”
“我们的光学方案是，通过创新的系统设计和静态曝光技术，在保持现有光源的基础上实现更大的优势。
这样不仅能降低技术开销，还能大幅降低成本。”
听到这里，杨思涵眼前一亮。
“这与中微在刻蚀机领域的创新思路不谋而合。
当年他们也通过新型改进技术，注意到了美国传统刻蚀机的技术路线，最终实现了突破。”
“这个创新思路很有价值。”
李一凡开口道，“不过我们现在最关心的是时间表。
威廉姆斯博士，按照您的规划，从立项到出样机需要多长时间？”
威廉姆斯在大屏幕上调出一份甘特图：“根据我们的评估，整个项目分三个阶段。
第一阶段是基础研，为期一年，主要是光学系统的原理验证和关键部件的商标。”
“第二阶段是工程样机，计划用两年时间完成28n光刻机的质量。
这个阶段最关键的是光学系统和精密控制系统的整合。”
“第三阶段是产品化和工艺提升，目标是在五年内实现14n光刻机的量产。
同时，我们会同步开展更先进工艺的研。”
杨思涵若有所思：“这个规划很紧凑。
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