，对于很多人来说，可能都是一个陌生的词汇。
但是，半导体领域的人肯定都知道这个东西。
虽然不起眼，不如光刻机贵重，但也是一个极为核心的关键。
它是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩膜版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他组剂组成，在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等关照或辐射下，其溶解度发生变化，经适当溶剂处理，溶去可溶性部分，最终得到所需图像。
光刻胶被广泛应用在光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。
在半导体领域，光刻是芯片制造最核心的工艺，光刻胶的质量和性能是影响芯片性能和成品率以及可靠性的关键因素。
而光刻胶也被分为普通宽普光刻胶、g线、i线、KrF、ArF以及最先进的EUV光刻胶。
根据应用领域的不同，也分为了PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶，其中PCB光刻胶的技术壁垒最低，半导体光刻胶的技术门槛最高。
全球光刻胶的市场销售额达到了20亿的规模。
这个规模并不算大，但是却很重要。
目前，在这个领域里面，核心厂商主要是来自樱花国、白头鹰和泡菜国的生产商，前五大厂商占有全球大约91%的市场份额。
王东来选择光刻胶，也是经过精挑细选，才选出来的。
实验室里，王东来按照娲给出的制造流程，按部就班地进行着。
是的！
光刻胶并不是王东来研究出来的，而是娲通过大模型学习，然后通过庞大的算力进行研发出来的。
网络时代，就是数据时代。
有了数据，就能做成很多事情。
比如说是光刻胶的研发，换成其他公司，可能就需要一点点的去摸索试验，和碰运气一样，去挖掘一款新的光刻胶材料配方。
但是，银河科技却不用。
只需要给娲提供大量的相关材料和数据，娲就能进行虚拟实验。
如此一来，只需要付出一些微不足道的电费和算力，就能得到一个新的材料配方。
“老板，根据我的计算，这个配方的正确率在99.999%以上，根本无需再进行实验，完全可以直接拿去投产！”
空荡荡的实验室里，忽然响起了娲的声音。
王东来并没有被吓到，而是头也不回地忙着自己的事情，淡定出声说道：“我知道以你的研究能力，这款光刻胶的配方不会出现问题，完全可以直接做到投产。”
